Ontwerpmethode Imec vangt 45 nm-procesvariatie af

Imec heeft een flow voor chipontwerp ontwikkeld die gebruikers bewust maakt van procesvariatie in sub-45-nanometertechnologie. Daarmee kunnen ontwerpers timing, energieverbruik en opbrengst van hun design optimaliseren, rekening houdende met de verwachte application load. Imecs Variability-Aware Modeling (VAM) is compatibel met bestaande commerciële Design for Manufacturing (DFM)-tools.

Volgens vicepresident Rudy Lauwereins van Imecs Nomadic Embedded Systems-groep moet het uitbrengen van de VAM-flow gezien worden als middel om de overstap naar fabless- en fab-lite-businessmodellen te vergemakkelijken. Een aantal chipmakers is bezig hun eigen fabs af te stoten en de verwachting is dat meer zullen volgen. Door deze trek moeten ontwerpers van Integrated Device Manufacturers (IDM‘s) en fabless halfgeleiderfabrikanten kunnen ’praten‘ met hun collega‘s van de foundry‘s. ’IDM‘s hebben elk hun eigen methodologie voor procesvariatieanalyse. Wij willen dat gat tussen foundry‘s en fabless bedrijven overbruggen.‘

Imec werkte samen met Qualcomm en Samsung in het Technology-Aware Design (TAD)-programma. TSMC hielp om de ontwikkelde aanpak te valideren. De partners analyseerden de prestaties en het energieverbruik van een Arm926-processor en gebruikten de VAM-output om hem te optimaliseren voordat hij in productie ging.