Technieuws

Vorming euv-licht uit lasergeproduceerd tinplasma beter begrepen

Reading time: 1 minute

Het Advanced Research Center for Nanolithography, mede opgericht op initiatief van ASML, heeft zijn eerste wetenschappelijke publicatie afgeleverd. In Physical Review Applied presenteren ARCNL-onderzoekers en collega’s de resultaten van hun studie naar de versnelling en vervorming van microscopische tindruppeltjes na beschieting door een laserpuls. De resultaten zijn industrieel uiterst relevant, want zo wordt euv-licht opgewekt.

In een euv-bron wordt een tindruppel tweemaal beschoten: eerst met een relatief zwakke laserpuls, waardoor de druppel versnelt en vervormt. Daarna volgt een tweede, veel krachtigere laserpuls die de vervormde druppel verandert in een plasma, dat euv-licht uitstraalt.

De studie richtte zich op de eerste fase. ‘De juiste vervorming door die eerste stoot luistert nauw voor de uiteindelijke efficiëntie van het gehele proces’, aldus hoofdauteur Oscar Versolato van ARCNL. Om de eerste nanoseconden van het proces te begrijpen is plasmafysica nodig, maar de rest van het microsecondes durende vervormingsproces blijkt uitstekend te beschrijven met vloeistoffysica. Allicht kan deze kennis worden gebruikt om de efficiëntie van euv-bronnen te verhogen.

This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one for only €15 and enjoy all the benefits.

Login

Related content