Euv-plasma’s komen op twee plaatsen voor in het universum: in de ruimte en in de scanners van ASML. Veel was er niet bekend over hun fysica, totdat onlangs een Eindhovense promovendus zich erop stortte.
Een kwart eeuw geleden was extreem ultraviolette straling (euv-straling) nog een tamelijk obscuur onderzoeksonderwerp. Vadime Banine, research director bij ASML en parttime hoogleraar bij de TU Eindhoven, laat met een staafgrafiek zien dat er in een typisch jaar een handjevol publicaties over verscheen. ‘Dat zijn voornamelijk astronomische publicaties over euv-plasma’s die in de ruimte te vinden zijn’, vertelt Banine. Pas in de jaren negentig gingen onderzoekers op aarde meer met euv spelen, met een explosie in het aantal publicaties tot gevolg.
Dat onderzoek kreeg al snel een industriële toepassing: rond de eeuwwisseling werd euv aangewezen als de opvolger van diep ultraviolet (duv) licht in de lithografische tools voor chipfabricage. Hoewel de ontwikkeling van deze euv-machines inmiddels zo ver gevorderd is dat ze naar verwachting over twee tot drie jaar hun debuut maken in massaproductie, kent het fenomeen euv nog vele geheimen.
This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one for just €20 for the first year and enjoy all the benefits.
