Intel rekent niet op EUV op 10 nanometer

Intel kan er niet van uitgaan dat EUV-lithografie het stokje kan overnemen van immersie als het rond 2016 toe is aan 10-nanometerchips. De processorreus houdt daarom een immersiealternatief achter de hand in de vorm van een quadruple patterning-proces, vertelde fellow Mark Bohr op het Intel Developer Forum, deze week in San Francisco. Aanwezige journalisten noteerden echter tegenstrijdige antwoorden van Bohr op de vraag of het viervoudige belichtingsproces kosteneffectief is. Volgens EE Times is dat het geval, volgens The Inquirer niet.

Doorslaggevend bij de keuze voor lithografie zijn de kosten per transistor. Die moeten iedere chipgeneratie voldoende dalen om de ontwikkelkosten te kunnen verantwoorden. Een multipatroneringsproces kan zich terugverdienen als de structuren voldoende verdichten, zelfs als enkele lagen vier keer moeten worden belicht. EUV zou dankzij de lagere golflengte met minder belichtingsstappen moeten toekunnen, maar deze technologie heeft nog niet de benodigde doorvoer om concurrerend te zijn. Intel hoopt dat dat te zijner tijd het geval is, maar rekent er niet op. Het werkt daarom parallel aan twee litho-opties.

Nog niet zo lang geleden zouden berichten als deze koren op de molen zijn geweest van EUV-sceptici, maar de recente miljardeninvesteringen van Intel en andere chipmakers in ASML hebben hun alle munitie ontnomen.