Imec en Tokyo Electron verlengen hun lopen samenwerking om EUV-lithografie te ontwikkelen. Zij richten zich op nieuwe aanpakken om het trio van procesparameters resolutie, gevoeligheid en line width roughness gelijktijdig op een acceptabel niveau te kijken. Ook kijken de Japanse machinebouwer en het Vlaamse onderzoeksinstituut naar optimalisatie van het coating- en ontwikkelproces. Daartoe zal Tel een Clean Track Lithius Pro-machine leveren, die in de uitbreiding van Imecs cleanroom zal komen te staan. Deze opent deze zomer.
This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one for just €20 for the first year and enjoy all the benefits.
