Het EUVL Infrastructure Development Center (Eidec) uit Japan heeft een euv-fotolak ontwikkeld die tien keer gevoeliger is dan wat tot nu toe beschikbaar was. Toepassing van het nieuwe materiaal zou euv-productie tien keer sneller kunnen maken, schrijft Nikkei Asian Review. Analisten van de Rabobank denken dat euv nu op het punt van doorbreken staat, meldt het ANP.
De productiviteit van een euv-scanner wordt niet alleen bepaald door het vermogen van de bron. Naast lichtverlies vormt de gevoeligheid van de fotolak een belangrijke factor: hoe gevoeliger, hoe korter de benodigde belichtingstijd. De Japanners wisten de gevoeligheid te verbeteren door met metaaloxides te werken in plaats van met de gebruikelijke organische verbindingen.
Eidec is een in 2011 opgericht consortium van elf Japanse bedrijven, waaronder Nikon en Tokyo Electron, en enkele Japanse en internationale partners, waaronder Intel en Samsung. Eidec is plan de fotolak via zijn aandeelhouders Fujifilm, JSR en Tokyo Ohka Kogyo aan de halfgeleiderindustrie ter beschikking te stellen.
This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one for just €20 for the first year and enjoy all the benefits.
