Het wil maar niet vlotten met Extreem Ultraviolet-lithografie, de gedoodverfde opvolger van immersie. Ontwikkelaar ASML en zijn medestanders kregen menig tegenslag te verwerken. Dat leidt langzamerhand tot twijfel. Schoppen EUV-machines het ooit tot een echte productieomgeving? Of sterven ze een stille dood zoals ook ooit 157-nanometerlithografie dat deed? Bits&Chips legt EUV het vuur aan de schenen.
Martin van den Brink, directeur marketing en techniek bij ASML, was begin 2007 in een interview met dit blad verbazingwekkend openhartig. Refererend aan de drie orders voor Extreem Ultraviolet-machines die zijn bedrijf had mogen incasseren, zei hij: ’Dat is het grootste wonder in de recente lithogeschiedenis.‘ En over het verschepen van alfa-EUV-tools naar onderzoekscentra Imec en Albany Nanotech: ’Ik moet het niet zeggen, maar ik wordt er doodzenuwachtig van. Nu moeten we niet alleen een tool aan de praat krijgen bij ASML, maar ook een tool bij klanten.‘
Van den Brink heeft reden tot nervositeit, want hij maakte mee dat 157-nanometerlithografie flopte. Ook toen had zijn bedrijf twee machines naar Imec en Albany verzonden. Dat is blijkbaar geen garantie voor succes. De technologiedirecteur weet de mislukking van destijds indirect aan de beschikbaarheid van een andere lithografische machine: de 193 nm-immersiescanners. ASML ontwikkelde die zo‘n beetje parallel aan 157 nm-tools. 193-nanometerlithografie onder water is tegenwoordig gemeengoed. De flop van 157 nanometer kostte de Veldhovenaren dus niet de kop, alleen een smak geld.
This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one for just €20 for the first year and enjoy all the benefits.
