Het Suny Polytechnic Institute en Globalfoundries beginnen in Albany het Advanced Patterning and Productivity Center. Het APPC krijgt de beschikking over vijfhonderd miljoen dollar, honderd onderzoekers en een scanner van ASML om euv-lithografie in te passen in het ic-productieproces. Dan gaat het om zaken als de maskers, de fotolak en de eda-software. Het onderzoek richt zich op 7-nanometerchips en kleiner en wordt financieel gesteund door de staat New York.
Twee en een half jaar geleden richtten ASML en Imec een vergelijkbaar centrum op, het Advanced Patterning Center.
This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one for just €20 for the first year and enjoy all the benefits.
