ASML heeft zijn Twinscan XT:1450-waferstepper uitgebracht die zich richt op volumeproductie van structuren beneden de 60 nanometer met standaard 193 nanometer-licht en zonder water of andere immersievloeistof. ’De introductie van de XT:1450 is een antwoord op vragen van onze klanten naar een belichtingssysteem met een zeer hoge voor plaatsingsnauwkeurigheid, een van de belangrijkste aandrijvers voor krimp‘, zegt Martin van den Brink van ASML. De machine heeft een capaciteit van 143 wafers per uur.
Het apparaat is via double patterning ook te gebruiken voor 32 nanometer-structuren. Bij deze technologie brengt de fabrikant twee patronen over elkaar aan om een hogere resolutie te halen. Daardoor is de verwerkingscapaciteit bij deze methode lager. Onder meer geheugenfabrikanten hebben echter geen keus; de markt vraagt om een tijdelijke oplossing zolang de volgende generatie lithografie nog niet gereed is.
This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one for just €20 for the first year and enjoy all the benefits.
