Machinebouwer Vistec Lithography heeft zich aangesloten bij CEA-Leti en start-up Direct2silicon (D2S) om chipfabricage met e-beamlithografie te ontwikkelen. Het Franse onderzoeksinstituut gaat met machines van Vistec 45- en 32-nanometerchips produceren die met de software en design-for-e-beam-technologie van D2S zijn ontworpen.
Deze aankondiging is interessant voor Mapper, dat vorige maand de samenwerking met CEA-Leti officieel bekrachtigde. De Delftenaren ontwikkelen met de Fransen de infrastructuur voor de e-beamfabricage van 22-nanometerchips. De ervaring die CEA-Leti opdoet met Vistec en D2S zal daarbij van pas komen.
This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one for just €20 for the first year and enjoy all the benefits.
