Nikon zegt een double-patterningscanner te gaan leveren in het vierde kwartaal van dit jaar. De machine is gebaseerd op Nikons huidige 193-nanometerscanner, de NSR-S610C. Later moet een tweede, geavanceerder type volgen. Beide apparaten zijn bedoeld om ontwikkelwerk voor het 32-nanometerknooppunt te starten. Productie van 32-nanometerchips begint rond 2011.
Nikon zegt een double-patterningscanner te gaan leveren in het vierde kwartaal van dit jaar. De machine is gebaseerd op Nikons huidige 193-nanometerscanner, de NSR-S610C. Later moet een tweede, geavanceerder type volgen. Beide apparaten zijn bedoeld om ontwikkelwerk voor het 32-nanometerknooppunt te starten. Productie van 32-nanometerchips begint rond 2011.
Bij double patterning (DP) wordt het af te beelden circuitpatroon in twee belichtingstappen opgebracht. De extra stap is niet ideaal, want hij verlaagt de doorvoersnelheid. Het is bovendien niet triviaal om de twee patronen niet teveel te laten verschuiven ten opzichte van elkaar. Dit wordt uitgedrukt als de zogenaamde overlay. Er is echter geen andere techniek op tijd klaar om 32-nanometerchips te maken. De IC-industrie beschouwt haar daarom als een tussenoplossing.
This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one for just €20 for the first year and enjoy all the benefits.