Technieuws

Hynix standaardiseert op ASML’s Lithocruiser voor diep-UV

Reading time: 2 minutes

Hynix Semiconductor gaat het softwarepakket Lithocruiser van ASML-dochter Masktools gebruiken voor geheugenchips met lijntjes van 60 nanometer en kleiner. Masktools zegt dat intussen verschillende chipfabrikanten de tool gebruiken. Hynix is de eerste die het met naam en toenaam mag noemen. Het Koreaanse bedrijf gaat de software gebruiken om DRam- en flashproducten te maken.

Masktools werd groot met technologie voor het ontwerpen en produceren van maskers voor het afbeelden van chips. Daarbij gaat het vooral om technieken die de resolutie verbeteren en helpen om de patronen te verscherpen in het lithografische chipproductieproces. Resolution enhancement is vooral belangrijk voor details kleiner dan de golflengte van het gebruikte licht. Bij rechttoe rechtaan afbeelden treden namelijk ongewenste verschijnselen op. Scherpe hoeken in het masker komen bijvoorbeeld als rondingen in de fotolak terecht. Door extra informatie aan het origineel (masker) toe te voegen of belichtingstechnieken toe te passen, lukt het vaak om wel de gewenste details en scherpte te krijgen. In de huidige chipproductie is deze optische trukendoos niet meer weg te denken. Waferscanners gebruiken laserlicht van 248 nm (KrF) en 193 nm (ArF) om de chipgeneraties van 90 tot 45 nm te belichten.

Lithocruiser is een softwarepakket ontwikkeld door Masktools. Met de programmatuur kunnen chipfabrikanten hun productieproces optimaliseren, nog voordat de ASML-scanners zijn gearriveerd, of voordat ze met hun bestaande scannerpark overstappen naar de volgende node. Daarbij gaat het om de meest kritische lagen waarin elementen als transistoren en geheugencellen hun vorm krijgen.

This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one for just €20 for the first year and enjoy all the benefits.

Login

Related content