IBM zet 22 nm-kaarten op ‘computationele schaling’

IBM is een samenwerking aangegaan met EDA-specialist Mentor Graphics en maskermaker Toppan om fotomaskers te ontwerpen voor het 22-nanometerknooppunt. Onder de noemer ’computationele schaling‘ zetten de partners wiskundige technieken in om fotomaskerpatronen zodanig aan te passen dat ze accuraat 22 nm-structuren kunnen afbeelden. ASML‘s Brion lanceerde in februari al een platform met vergelijkbare doelstelling, de Tachyon 2.5. De Veldhovenaren spreken meestal van computationele lithografie.

IBM denkt geen andere keus te hebben dan zijn 22 nm-chips met computerondersteunde immersielithografie te produceren. Ondanks de wiskundige trukendoos is het dure double patterning daarbij noodzakelijk. Sommige chipmakers geloven dat EUV soelaas kan bieden op 22 nanometer, maar Big Blue ziet dat niet gebeuren, zo vertelde Subramanian Iyer, chief technologist van IBM‘s Semiconductor Research and Development Center. Intel stelde zich al eerder openbaar op dat standpunt en gaat uit van EUV-productie van 16 nm-chips.