Imec is begonnen de NXE:3100-scanner van ASML aan te sluiten in zijn cleanroom. Dat maakt het Leuvense onderzoeksconsortium vandaag bekend op de SPIE Advanced Lithography-conferentie in San Jose. In ieder geval Samsung ging Imec al voor; in totaal heeft ASML acht bestellingen gekregen voor de tool, de eerste waarmee ook IC-fabrikanten zelf mee gaan spelen. Imec had al een van de twee bètatools staan.
De installatie markeert de volgende stap in het gereedmaken van EUV-technologie voor commerciële halfgeleiderproductie, al haalt ook de nieuwe tool niet de daarvoor benodigde doorvoer van minimaal zestig plakken per uur. Dit ondanks een dubbele-stageconstructie, een betere transmissie en een sterkere lichtbron vergeleken met de eerste onderzoekstool. ASML‘s roadmap voorziet in de levering van echte productiemachines vanaf 2014.
This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one for just €20 for the first year and enjoy all the benefits.
