Nec Electronics en Toshiba breiden hun samenwerking met de IBM-lithografiealliantie uit door mee te doen met de ontwikkeling van procestechnologie voor bulk-CMos-productietechnologie op 28 nanometer met hoge-k-materialen en metalen gates. Dat schrijft EE Times. De Japanse bedrijven zijn relatieve nieuwkomers. Nec zit nog geen jaar bij de alliantie, Toshiba sloot zich eind 2007 pas aan. Naast deze twee bedrijven en IBM omvat de alliantie nu Chartered, Globalfoundries, Infineon, Samsung en STMicroelectronics. In april onthulde de ’fabclub‘ zijn technologie voor 28 nanometer. In 2010 moet de eerste productie starten voor de koplopers. Bulkproductie zal pas later volgen.
This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one for just €20 for the first year and enjoy all the benefits.
