Opmerkelijke EUV-samenwerking Albany en Imec

Het College of Nanoscale Science and Engineering (CNSE) van de University at Albany en Imec gaan samenwerken aan extreem-ultravioletlithografie (EUV). Het doel is de haalbaarheid van de technologie aan te tonen, de ontwikkeling ervan te versnellen en zodoende de introductiedatum naar voren te halen. Behalve de onderzoeksinstituten zijn ook medewerkers van IBM en ASML betrokken bij de gezamenlijke inspanning. ASML heeft ‘s werelds eerste EUV-testmachines gebouwd. Die staan zowel in Albany als in Leuven.

’Dit is een unieke mogelijkheid om EUV vooruit te helpen. Dat is noodzakelijk voor de fabricage van toekomstige nano-elektronica‘, zei bestuurder Alain Kaloyeros van CNSE. EUV staat op de planning voor de productie van 32-nanometerchips. Luc Van den hove, COO bij Imec, benadrukte echter dat er nog ’grote hindernissen overwonnen moeten worden‘ voordat de eerste EUV-chips van de band rollen. Een partnerschap ligt daarom voor de hand, vindt hij.

De samenwerking levert zeker iets op, voegde lithodirecteur Kurt Ronse van Imec toe. ’Aangezien EUV nog steeds in ontwikkeling is, moeten ASML‘s alfatools af en toe geüpgraded worden. Omdat we van elkaars faciliteiten gebruik kunnen maken, leidt dat niet tot vertraging. We kunnen onze industriële partners dus versnelling van EUV-onderzoek garanderen.‘ Daarnaast levert het uitwisselen van ervaringen en resultaat tijdwinst op.