Ushio-dochter Xtreme Technologies heeft de Philips-eenheid voor EUV-lichtbronnen overgenomen. Xtreme heeft al een R&D-centrum voor extreem ultraviolet en werkte sinds 2008 samen met Philips aan de bronnen voor de volgende generatie van lithografiemachines. Het hoofdkwartier van Xtreme verschuift van het Duitse Göttingen naar Aken, waar Philips zijn EUV-tak had ondergebracht. Alle Philips-medewerkers mogen aanblijven.
Op dit moment gebruiken geavanceerde lithografiemachines licht met een golflengte van 193 nanometer. Dat is echter niet geschikt om de nog kleinere lijntjes te printen die nodig zijn voor de volgende generaties chips. EUV met een golflengte van 13,5 nanometer kan uitkomst bieden. Er zijn echter nog wel wat problemen om de technologie productierijp te maken waaronder een volwassen lichtbron.
Het Japanse Ushio nam in 2005 een belang van 50 procent in het Duitse Xtreme. Drie jaar later verkreeg het ook de rest van de aandelen en stapte het met Philips in een gezamenlijk ontwikkeltraject.
This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one for just €20 for the first year and enjoy all the benefits.
