Verschillende bedrijven zouden interesse hebben in Sematechs geplande onderzoeksprogramma voor e-beamlithografie met meerdere bundels. Het Amerikaanse onderzoeksinstituut wil met het initiatief toenemende fabricagetijden van fotomaskers aanpakken. Voor 32-nanometerchips duurt dat een pijnlijke twee tot drie keer langer dan voor 65-nanometerchips. Tot de geïnteresseerden behoren onder meer meer het Duitse e-beamspecialist Vistec en twee Japanse makers van maskerschrijvers, Jeol en Nuflare. Mapper, dat zich in eerste instantie op productie toelegt, houdt zich op de vlakte, aldus een bericht in Fabtech.
This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one for just €20 for the first year and enjoy all the benefits.
