Superkritische vloeistoffen

Paul Castrucci, een ex-IBM‘er die tegenwoordig consultancy doet, gaat een groep leiden die superkritische vloeistoffen (SKV‘s) opnieuw onder de loep neemt als schoonmaakmiddel voor wafers voor en tijdens chipproductie. Dat meldt marktanalist Gartner. Het initiatief heeft steun van onder meer Applied Materials, IBM, KLA-Tencor en een aantal onderzoeksinstellingen.

Gassen als ammoniak en koolstofdioxide condenseren onder hoge druk tot vloeistoffen met bijzondere eigenschappen. De lage oppervlaktespanning van deze SKV‘s maakt ze tot een prima zeep: ze wassen gemakkelijk nanodeeltjes, die normaalgesproken door Van der Waals-krachten muurvast zitten. SKV‘s leken daarom zeer geschikt voor het schoonmaken van wafers.

In het verleden hebben verschillende bedrijven deze toepassing van de bijzondere vloeistoffen onderzocht. Daar is niet veel uitgekomen. Het kostenaspect speelde een belangrijke rol: het onder druk brengen van grote hoeveelheden gassen kost veel energie. Ook de mogelijkheid dat er gevaarlijke vloeistoffen vrijkomen bij lekkage deed de wenkbrauwen fronzen.