Texas Instruments gaat immersielithografie gebruiken voor de productie van chips. De Amerikaanse chipfabrikant evalueert daarvoor momenteel scanners van ASML en Nikon. TI wil immersie gaan invoeren voor de generatie chips met details van 45 nanometer. Dat zei Hans Stork, chief technology officer van TI, vorige week in een interview met Silicon Strategies.
TI verwacht nog conventionele 193 nm-scanners in te zetten voor de generaties van 90 nm en 65 nm. Daarna volgt over drie jaar 45 nm met immersie. ’Het is nog geen uitgemaakte zaak‘, zegt Stork, ’maar we rekenen erop dat de machines op tijd gereed zijn. Anders hebben we grote problemen.‘ Zowel ASML als Nikon levert al jaren scanners en steppers aan TI. Stork zegt dat TI nog geen beslissing heeft genomen over de aanschaf van immersietools.

