Xtreme bouwt EUV-bron van 800 watt

Xtreme Technologies heeft een bron voor extreem ultraviolet (EUV)-lithografie ontwikkeld die een vermogen haalt van 800 watt. Het Duitse bedrijf startte het onderzoeksproject met het doel om 120 watt te halen. Voor massaproductie met EUV moet er rond 2010 een bron beschikbaar zijn van ongeveer 1 kW, schat Xtreme. EUV is een kandidaat voor de productie van de volgende generatie chips met details van 32 nm.

Het onderzoek van Xtreme valt onder de paraplu van het EU-project More Moore. ASML heeft de leiding van dit driejarige samenwerkingsverband. More Moore ontving 23,25 miljoen euro subsidie uit Brussel. Behalve de Veldhovense machinebouwer en de Duitse EUV-specialist nemen onder meer Philips, Schott Lithotec en Zeiss aan het project deel. De bedrijven krijgen ondersteuning van wetenschappelijke instellingen als CEA Leti, FOM Rijnhuizen, Fraunhofer, Imec, TNO en de TU Delft.