Carl Zeiss heeft ASML de EUV-lichtbronnen geleverd voor de eerste R&D- en productietools die volgend jaar verscheept gaan worden. Deze machines zijn gespecificeerd op een doorvoer van zestig wafers per uur, hetgeen doet vermoeden dat het wattage van het peertje rond de honderd watt ligt. ’Vijftien jaar geleden begonnen we aan de ontwikkeling van EUV-lithografie en hebben er sindsdien meer dan honderd miljoen euro in geïnvesteerd‘, zegt EUV-programmadirecteur Peter Kürz van Carl Zeiss. Een vijfde van dat bedrag kreeg het Duitse bedrijf van de Duitse en Europese overheid.
Onder de vijf EUV-bestellingen die ASML tot op heden mochten noteren, zijn voor het eerst ook chipfabrikanten zelf – dusver hadden alleen de onderzoeksinstellingen Imec en Sematech ieder een testmachine staan. De vijf klanten gaan de tools gebruiken voor 22-nanometerontwikkeling en -productie. Een tweede generatie EUV-systemen moeten dankzij een sterkere lichtbron een nog hogere doorvoer halen.
This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one for just €20 for the first year and enjoy all the benefits.
