Een tweetal onderzoeksgroepen boekten afgelopen tijd vooruitgang om nanoscopische patronen af te drukken zonder lithografie te gebruiken. De universiteit van Princeton kwam met een methode op de proppen die kinderlijk eenvoudig lijntjes oplevert die enkele tientallen nanometers uit elkaar liggen. IBM slaagde erin nog een veel complexere afbeelding te maken door zelfassemblerende moleculen in te zetten.
De methode van Princeton bestaat uit drie stappen. Een dunne laag polymeer wordt over twee platen uitgesmeerd. Vervolgens verwarmen de Amerikaanse onderzoekers de polymeersandwich om de interactie tussen beide lagen te maximaliseren. Als ze daarna de platen loswrikken, blijken er lijntjes over de platen te lopen die keurig parallel aan elkaar liggen. De afstand tussen de strepen is vier keer zo groot als de laagdikte. Het record staat op het ogenblik op 60 nanometer.
’Zo eenvoudig, het is net magie‘, karakteriseert elektrisch ingenieur Stephen Chou van Princeton de vondst van zijn groep. Chou is tevens oprichter van Nanonex, een bedrijf dat zich met nano-imprintlithografie bezighoudt. ’Die techniek is geweldig om structuren te repliceren, maar het maken van een matrijs is complex en duur. Onze methode maakt geen gebruik van zo‘n mal en is bovendien geschikt voor grote oppervlakken.‘ Chous fracture-induced patterning is mogelijk toepasbaar in de productie van lcd-schermen.
This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one for just €20 for the first year and enjoy all the benefits.