Suss Microtec breidt zijn handmatige maskeruitlijners uit met een nano-imprinttoolkit, afkomstig van Philips Research. Daarmee zijn volgens het bedrijf grote oppervlakte te bewerken met een resolutie van minder dan 50 nanometer. De substrate conformal imprint lithography-techniek (Scil) moet een brug slaan tussen rigide stempels en zachte stempels. De eerste technologie haalt een hoge resolutie, maar kan alleen worden gebruikt voor kleine oppervlakten. Bij een groot contactoppervlak tussen de stempel en het substraat wordt het verwijderen lastig. De tweede methode kan juist wel grote oppervlakten aan doordat de zachte stempels kunnen worden afgestroopt. Doordat de zachte stempels vervormen als ze in het substraat worden gedrukt, zijn er alleen maar tot structuren van boven de 200 nanometer mee te maken.
Scil gebruikt ook zachte stempels, maar zet er geen kracht op. In plaats daarvan trekt de capillaire kracht de stempel in het substraat, waardoor er minder vervorming optreedt. De Scil-toolkit kan op bestaande maskeruitlijnmachines worden geïnstalleerd. Miplaza onderzoekt ondertussen de verdere procesontwikkeling van de Scil-technologie.
This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one for just €20 for the first year and enjoy all the benefits.