Altatech Semiconductor heeft vandaag op de Semicon Europa-vakbeurs een tool gelanceerd voor atoomlaagdepositie (ALD) en chemical vapor deposition (CVD). De AltaCVD is onder meer geschikt voor het opbrengen van diëlektrica met hoge k, metalen elektroden, legeringen voor faseveranderingsgeheugens en diffusiebarrières voor koper. De Franse machinebouwer begeeft zich daarmee in hetzelfde speelveld als ASM International. Het is publiek geheim dat Intel pionier is in het gebruik van hoge-k-diëlektrica in geavanceerde CMos-processen en daarvoor de Bilthovense tools gebruikt.
This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one for just €20 for the first year and enjoy all the benefits.
