ASML trekt zijn R&D-budget het tweede en mogelijk het derde kwartaal met 5 miljoen euro op naar 150 miljoen euro om de achterstand in de ontwikkeling van een volwaardige EUV-machine niet verder op te laten lopen. Dat heeft het bedrijf bekendgemaakt bij de presentatie van de eerstekwartaalcijfers. Het pijnpunt is en blijft de lichtbron, die voor een belangrijk deel de doorvoer van de machine bepaalt – en dus de geschiktheid voor commerciële productie. De ontwikkeling daarvan ligt in handen bij drie zelfstandige bedrijven, maar ook ASML moet een tandje opschakelen om de verschillende bronnen te integreren in zijn machine.
Rondom EUV-technologie hebben altijd zorgen gehangen, maar het is voor het eerst dat ASML die zo expliciet adresseert. Volgens de oorspronkelijke roadmap zouden halfgeleiderfabrikanten nu al kunnen beschikken over een bron die 60 wafers per uur mogelijk maakt. Deze doorvoer is goed genoeg voor R&D-doeleinden op de zes proefproductiemachines die ASML is begonnen te leveren. De bewuste bron komt er echter pas op zijn vroegst aan het einde van het jaar. De achterstand bedraagt dus zes tot negen maanden.
Voor commerciële productie wordt een minimale doorzet van 125 wafers per uur aangehouden. ASML rekent erop dat de daarvoor benodigde bron gereedkomt voor 2012 ten einde loopt. ’Er wordt vooruitgang geboekt, terwijl de industrie de ontwikkeling van de infrastructuur veiligstelt en wij het systeem zelf kwalificeren‘, aldus CEO Eric Meurice.
This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one for just €20 for the first year and enjoy all the benefits.
