BasF in chemisch schoonmaakprogramma Imec

De Duitse chemiegroep BasF uit Ludwigshafen heeft zich aangesloten bij Imecs industriële programma voor de ontwikkeling van schoonmaakoplossingen voor metalen lagen in de halfgeleiderproductie. De samenwerking richt zich op de ontwikkeling van chemische stoffen voor de 32 nm-generatie en kleiner.

Het onderzoeksprogramma moet leiden tot snellere schonnmaakslagen in het productieproces en tot schonere wafers. ’Nieuwe en simpelere productieprocessen zijn een must voor duurzame IC-technologiën‘, legt Serge Vanhaelemeersch, directeur van de afdeling Geavanceerde materialen en Processtappen, uit. ’De toenemende uitdagingen van de IC-industrie kunnen we alleen overwinnen door samen te werken en interdisciplinaire teams te vormen.‘

BasF meent dat het de nieuwe chemische oplossing rond 2010 kan commercialiseren met de introductie van de 32 nm-technologie. De Duitsers zijn eenzelfde researchsamenwerking aangegaan met IBM, die zich ook richt op de ontwikkeling van schoonmaakmiddelen voor de productie van 32 nanometer-halfgeleiders.