IBM en het Franse onderzoeksinstituut CEA-Leti gaan samenwerken in onderzoek naar halfgeleiders en nanotechnologie. Daarvoor hebben ze een overeenkomst voor vijf jaar afgesloten. De samenwerking focust op drie gebieden: geavanceerde lithografie voor snelle prototyping en 22-nanometertechnologie, CMos-technologie en laagvermogendevices voor 22 nanometer en verder, en materiaalkarakterisering op nanoschaal. Het onderzoek zal worden gehuisvest bij Albany Nanotech (VS), CEA-Leti in Grenoble (Frankrijk), IBM in East Fishkill (VS) en STMicroelectronics in Crolles (Frankrijk).
This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one for just €20 for the first year and enjoy all the benefits.
