Europese interferentielitho produceert patronen op 30 nm

Een Europees consortium heeft een prototype interferentielithografiemachine gefabriceerd die patronen van dertig nanometer zonder fotomasker op een oppervlak kan aanbrengen. De deelnemers aan Development of Lithography Technology for Nanoscale Structuring of Materials Using Laser Beam Interference (Delila) denken dat op den duur structuren van vijf nanometer mogelijk zijn. Toepassingen variëren van antireflectiecoatings voor zonnecellen tot nanofilters en van sensoren tot zelfreinigende maatregelen.

Bij interferentielithografie (IL) wordt een coherente lichtbron, meestal een laser, opgesplitst in meerdere bundels, die vervolgens zodanig worden gecombineerd dat er een interferentiepatroon ontstaat. Oppervlakken bedekt met lichtgevoelige materialen kunnen dit patroon overnemen, met een vergelijkbaar  resultaat als standaard maskergebaseerde lithografie. Hoe meer bundels worden samengevoegd, hoe complexer de patronen. IL is sneller en goedkoper dan maskerlitho, maar kan geen complexe patronen produceren.