Fujifilm en Imec hebben een resist ontwikkeld die compatibel is met organische halfgeleiders. Standaard fotolakken zijn daarvoor niet geschikt, omdat ze organisch materiaal aantasten tijdens het proces. Met de nieuwe fotoverf, die werkt met standaard I-line-belichting, kunnen fijnere organische structuren worden gecreëerd dan nu mogelijk is met schaduwmaskers of inkjetprinten. Om de betrouwbaarheid van hun nieuwe proces aan te tonen, hebben Fujifilm en Imec een geavanceerde organische fotodetector en een oled gefabriceerd.
This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one for just €20 for the first year and enjoy all the benefits.
