Het Holst Centre ziet nieuwe toepassingsmogelijkheden voor spatial atomic layer deposition in de flexibele elektronica. Het open-innovatiecentrum neemt de technologie daarom op in zijn portfolio. Ook zoekt het partners om deze nieuwe activiteit in te vullen.
Met atoomlaagdepositie (ALD) kunnen dunne films worden aangebracht met controle over de dikte tot op atomair niveau. Spatiële ALD is een relatief nieuwe variant waarin de behandeling van een stationair substraat in een vacuümkamer met tijdrovende ontgassings- en beluchtingsstappen is vervangen door transport van het substraat door verschillende ’klimaatkamers‘. Het proces wordt daarmee dusdanig versneld dat het geschikt wordt voor massaproductie.
Spatiële ALD is onafhankelijk van elkaar ontwikkeld bij TNO (Solaytec) en ASMI (Levitech), die beide een spin-off hebben gevormd om de techniek toe te passen in zonnecelfabricage. Het Holst Centre wil de toepassing uitbreiden naar oledverlichting, flexibele displays en organische zonnecellen.
This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one for just €20 for the first year and enjoy all the benefits.
