IBM heeft de atomic force-microscoop (AFM) doorontwikkeld om 3D-nanopatronen in materialen te graveren. Het apparaat heeft het effect van een nanofreesmachine, maar in plaats van een roterend stuk gereedschap verwijdert een hete tip stukjes polymeer – in de breedte tot tien nanometer nauwkeurig, in de diepte één nanometer. Met e-beamlithografie is het lastig om 3D-profielen te creëren, en onmogelijk om gelijktijdig te schrijven en te lezen. IBM’s Nanofrazor kan dat wel.
Hoewel de techniek voorlopig alleen werkt met een polymeer, kan zij ook worden gebruikt om bijvoorbeeld anorganische halfgeleiders te patroneren. Dan wordt het uitgefreesde patroon simpelweg overgebracht op een ander substraat, waarna er een materiaal naar keuze bovenop wordt gedeponeerd en het polymeer wordt weggeëtst. IBM wil deze procedure gaan gebruiken om de ontwikkeling van Finfet-IC’s te versnellen.
This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one for just €20 for the first year and enjoy all the benefits.
