Achtergrond

Modelgebaseerd ontwerp van regelaars in lithoscanners

Wilbert Alberts is softwarearchitect en Ramon Schiffelers is designengineer bij ASML. Tijdens de Model-Driven Development Day op 9 mei geven zij een presentatie over de besproken modelgebaseerde ontwikkelomgeving. Jeroen Voeten is researchfellow bij het Esi en UHD aan de TUE.

Reading time: 7 minutes

Samen met het Esi en de TUE heeft ASML een multidisciplinaire modelgebaseerde ontwikkelomgeving op poten gezet. In dit artikel beschrijven zij hoe de omgeving helpt om de toenemende complexiteit van de Veldhovense lithografiesystemen het hoofd te bieden.

This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one for just €20 for the first year and enjoy all the benefits.

Login

Related content