‘ASML en IBM overdrijven EUV-vooruitgang schromelijk’, zette Robert Maire van Semiconductor Advisors boven het stuk dat hij in eerste instantie per nieuwsbrief naar klanten stuurde, maar kort daarna ook op diverse webfora postte. ‘Reaguurders’ op internet haakten gretig in. De toestand van het EUV-project was kennelijk zo hopeloos dat er tot dit soort stunts moet worden overgegaan, smaalden zij. En IBM, ja dat had natuurlijk een afleidingsmanoeuvre nodig nadat bekend was geworden dat Globalfoundries de fabs van Big Blue niet eens wilde overnemen als het geld toe kreeg.
Maire reageerde op nieuws dat oorspronkelijk door IBM’s chef EUV-ontwikkeling Dan Corliss wereldkundig was gemaakt via zijn Linkedin-account. Corliss sprak van ‘een mijlpaal’, een kwalificatie die blogger en EUV-expert Vivek Bakshi overnam. Binnen 24 uur bracht ASML er zelf een persbericht over uit.
Wat er was gebeurd: IBM had met de Veldhovense NXE:3300B-scanner 637 wafers in één dag belicht, meer dus dan de doorvoer van vijfhonderd plakken per dag die ASML belooft voor het einde van dit jaar. Het persbericht vermeldde keurig dat het slechts om een enkel datapunt ging en dat het experiment moet worden herhaald op verschillende machines en over langere periodes, voordat conclusies over de performance van de machine kunnen worden getrokken.


