TSMC splitst proces hoge-k metalen gates in hoge prestaties en low-power

TSMC voegt een extra smaakje toe aan zijn 28-nanometeraanbod: hoge-k-materialen en metalen gates (HKMG) voor low-power. De foundry had deze technologie tot nog toe op de kaart gezet voor hogeprestatiechips. Daarnaast houdt het de traditionele en goedkopere siliciumoxynitridetechnologie aan voor het 28-nanometerknooppunt. Dit laatste proces zal als eerste worden geïntroduceerd, aan het eind van het eerste kwartaal 2010. Het procedé voor hoge-k metalen gates voor hoge prestaties volgt een kwartaal later, HKMG voor low-power twee kwartalen. Het gaat dan om de eerste, risicodragende productie.