Sinds Nikon zijn programma voor hoge-indexlithografie de nek omdraaide, gonst het van de geruchten dat deze tak van sport dood is. Het blijkt een lang ziekbed te zijn geweest: al een jaar geleden begonnen de obstakels zich op te stapelen.
De eerste afvaller in de race voor de volgende generatie lithografische tools is daar. Althans, als je de berichtgeving in de Engelse vakpers mag geloven. EE Times en Semiconductor International verklaarden eensgezind hoge-indexlithografie (HIL) dood. De primeur ging naar Aaron Hand van SI. Hij zag HIL half mei op Sematechs Litho Forum ’neerploffen‘ en deed daar stante pede verslag van in zijn blog. Lithowatcher Mark LaPedus van EE Times volgde bijna twee weken later. ’Wie heeft HIL vermoord?‘, kopte hij.
De directe aanleiding om de opvolger van watergebaseerde immersielithografie aan de straat te zetten, komt van Nikon. Op bijna on-Japanse wijze deed de machinebouwer HIL in alle openheid in de ban. Volgens Nikons spreker op Sematechs Litho Forum komt het benodigde lensmateriaal te laat, als het al komt. Bovendien blijft een zogenaamde derde generatie immersievloeistof uit en is de tweede generatie niet goed genoeg om 32 nm half pitch te halen. Dientengevolge schrapte Nikon zijn plannen om een HIL-tool te maken en ontbond het bedrijf het R&D-team dat daarop zat. Officieel houdt Nikon zich alleen nog ’op basisniveau‘ bezig met de technologie.
This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one for just €20 for the first year and enjoy all the benefits.