TNO heeft een methode voor atoomlaagdepositie (ALD) ontwikkeld waarmee atoomscherpe lagen aluminiumoxide met een snelheid van een nanometer per seconde kunnen worden neergelegd. Het onderzoeksinstituut is bezig het concept verder uit te werken tot een productietool voor zonnecelfabrikanten, die er hun panelen mee kunnen voorzien van een passivatielaag (backside passivation). Andere mogelijke toepassingen zijn barrièrelagen in Oled- en bufferlagen in led-technologie.
Het is opmerkelijk dat TNO met een dergelijk initiatief uit de schaduw stapt, want het lijkt sprekend op de insteek van Levitech. Deze vorig jaar verzelfstandigde RTP-businessunit van ASMI richt zich ook met een supersnel ALD-proces op de PV-industrie. Het is onduidelijk hoe de private onderneming en het met overheidsgeld gefinancierde onderzoeksinstituut tegenover elkaar staan en of er een patentconflict sluimert.
12 maart verschijnt de volgende editie van Mechatronica Magazine met daarin alles over de nieuwe depositietool van TNO.
This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one for just €20 for the first year and enjoy all the benefits.
