One size does not fit all

Wij journalisten houden ervan om de dingen een beetje spannender te maken dan ze zijn. U, de lezer, vindt dat helemaal niet erg, leren de ervaringen met onze digitale nieuwsbrieven: u klikt vaker op stemmingmakende koppen. Op de redactie is het een beetje een sport geworden om ’saai‘ nieuws naar de top van de klikranglijst te ’helpen‘ met een prikkelende kop of een interessante invalshoek. Je werkt voor de Story van de hightech of niet, tenslotte. Anders dan het roddelblad huldigen wij overigens de basisprincipes van het ambacht en zullen dus nooit sensatie boven waarheidsvinding plaatsen. Naar onze overtuiging bestaat er een bevredigende combinatie van beide.

Ik moest aan journalistieke overdrijving denken toen ik probeerde vast te stellen of de recente editie van de SPIE Advanced Lithography-conferentie nog verschuivingen in het lithoplaatje had opgeleverd (zie pagina 8). Had EUV de nekslag uitgedeeld aan de concurrentie of waren er juist weer vertragingen? Welke impact heeft dat dan op andere next-generation lithography-kandidaten? Hadden die tempo gemaakt en dus achterstand ingelopen, in werkelijkheid of in beeldvorming?

Dit soort vragen is bij mij instinctief geworden: de ontwikkelingen in de IC-lithografie worden nu eenmaal voorgesteld als een race, die tot de dag van vandaag voortduurt. Ook al zet het gros van de chipmakers uiteindelijk zijn geld op een EUV-paard – meest op de volbloedhengst van ASML, want de knol van Nikon is astmatisch – de twee andere deelnemers E-beam (van Mapper) en Nano-imprint (van Molecular Imprints) hebben ondanks gebrek aan aanmoediging van het publiek de moed niet opgegeven.