ASMI heeft Tokyo Electron Limited (TEL) toegang gegeven tot zijn octrooien over atoomlaagdepositie (ALD). De Bilthovense machinebouwer geldt als ALD-specialist en heeft een uitgebreid patentenportfolio rond deze technologie. Met ALD is het mogelijk om één atoomlaag per keer op een substraat aan te brengen. Zo krijg je ultradunne films van hoge kwaliteit. In een persbericht bestempelt TEL ALD als een cruciale technologie, vooral voor productieprocessen die details kleiner dan 32 nanometer moeten opleveren.
This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one for just €20 for the first year and enjoy all the benefits.
