ASML heeft op de Japanse editie van Semicon veelbelovende progressies laten zien op het gebied van EUV- en immersielithografie. De Veldhovense machinebouwer presenteerde de eerste resultaten van zijn nieuwe Twinscan XT:1700i. Het apparaat maakt gebruik van een catadioptrische (reflectief en refractief) lens met een lensopening (numerical aperture, NA) van 1.2, gepolariseerde belichting en immersietechnieken op waterbasis. Hierdoor voldoet de nieuwe Twinscan-variant aan de gestelde eisen. ASML stoomt de machine nu klaar voor productie en verwacht nog dit kwartaal het eerste apparaat op transport te kunnen zetten. De Veldhovenaren denken dit jaar nog 20 tot 25 immersiemachines te kunnen verschepen.
In Japan liet ASML ook weten vergevorderd te zijn met zijn alfatool voor extreem ultraviolet (EUV)-lithografie. Maskeronderdelen van Schott Lithotec en Toppan Photomasks, en optische systemen van Carl Zeiss SMT zijn in Veldhoven gearriveerd. De assemblage is nu in volle gang. In het tweede kwartaal van dit jaar hoopt ASML de eerste twee 0,25 NA EUV-alphatools te verschepen naar Imec in Leuven en Albany Nanotech in de VS.
’De vooruitgang in EUV en immersie met hoge NA is interessant omdat beide technologieën de deuren openen naar 32 nm-lithografie en verder. Ook dubbele belichting met dubbele patronen is een mogelijkheid om de 193 nm-generatie te verlengen‘, zegt ASML-ster Martin van den Brink. ’De industrie moet keuzes maken op de roadmap. Wij zullen ons aanpassen. Onze partners en klanten krijgen zoals gebruikelijk snelle toegang tot onze machines, zodat ze ervaring kunnen opdoen met de technologieën en hun keuzes beter kunnen onderbouwen.‘
This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one for just €20 for the first year and enjoy all the benefits.
