De Universiteit Gent en Imec stellen vanaf vandaag een parametrische ontwerpomgeving voor geïntegreerde fotonica beschikbaar als opensource platform onder GPLv2-licentievoorwaarden. Het modulaire Ipkiss-pakket werd oorspronkelijk ontwikkeld door de Photonics Research Group van de UG en Imec als mask layout generator, maar is sindsdien sterk geëvolueerd. Gebruikers kunnen er fotonische componenten in definiëren, simuleren en integreren tot een complex circuit. De output is een lay-out voor een fotomasker. Ipkiss is ook geschikt voor Mems-, microfluïdica en plasmonica-toepassingen.
Het Gents-Leuvense platform maakt gebruik van de Python-scriptingtaal. Aan de hand van scripts kan de gebruiker op een analytische manier de component parametrisch beschrijven. Intern wordt deze beschrijving omgezet in een lay-out, in input/output-verbindingen met andere componenten, in een interne circuitvoorstelling, enzovoorts. Componenten kunnen technologie-informatie aangeleverd door de fab bevatten. Hierdoor kan een bepaald design gefabriceerd worden op verschillende locaties, waarbij fabricage-eigen condities meegenomen kunnen worden in het design.
Design-kits voor Imecs silicium-fotonicatechnologie zijn beschikbaar via Epixfab, de Europese foundryservice voor silicium fotonica, en rechtstreeks via Imec voor IC-ontwikkeling op maat.
This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one for just €20 for the first year and enjoy all the benefits.