Technieuws

IBM combineert lithografie met zelf-assemblage

Reading time: 2 minutes

Onderzoekers van IBM en het California Institute of Technology (Caltech) kunnen controle uitoefenen over de positionering en oriëntatie van driehoekige stukjes DNA op een oppervlak. In een publicatie in Nature Nanotechnology beschrijven zij hoe ze met een combinatie van conventionele lithografie en etstechnieken eerst het oppervlak verdelen in stukjes waar het DNA aan blijft plakken of juist niet. Vervolgens brengen ze het gevouwen biomolecuul aan uit een oplossing en wassen ze alle niet gebonden stukjes weg. Het resultaat is een regelmatig patroon van DNA-driehoeken, waarvan het de bedoeling is dat het gaat dienen als verzameling ankerpunten voor elektronisch meer interessante verbindingen als nanobuizen en -draden.

IBM-onderzoekers en collega‘s van Caltech kunnen driehoekjes van DNA in allerlei patronen op een oppervlak leggen.

De methode werkt op allerlei schaalgroottes. Zo is het mogelijk om brede stroken ’DNA-minnend‘ te maken, waar de driehoekjes schots en scheef aan binden. Maar aan plakkerige stukjes op het oppervlak die precies even groot zijn als de DNA-stukjes zelf, binden ze bij voorkeur zo dat de driehoeken samenvallen. In een patroon valt op die manier de relatieve oriëntatie van de driehoeken te controleren – foutjes als leeg gebleven bindingsplekken daargelaten. Het lukt zelfs vrij aardig om driehoeken te combineren in complexere geometrische vormen als trapezia of zeshoeken.

This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one for just €20 for the first year and enjoy all the benefits.

Login

Related content