Drie Nederlandse universiteiten en ASML zijn een onderzoeksprogramma gestart om nieuwe materialen te ontwikkelen die gevoelig zijn voor euv-straling. Drie promovendi en drie postdocs gaan bij de Universiteit Utrecht, de Vrije Universiteit en de Universiteit Twente zowel theoretisch als experimenteel aan de slag met fotogevoelige materialen gebaseerd op anorganische nanodeeltjes. Tot nu toe worden vooral organische verbindingen toegepast als fotolak.De publiek-private samenwerking is een zogenaamd Chemical Industrial Partnership Programme (Chipp). NWO betaalt de helft van het budget à 1,7 miljoen euro, ASML de andere helft.
This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one for just €20 for the first year and enjoy all the benefits.
