Intel: 7-nanometerproces ligt op schema

De ontwikkeling van Intels 7-nanometerproces verloopt voorspoedig, mede dankzij gebruik van euv-lithografie. Dat heeft chief engineering officer Murthy Renduchintala vorige week gezegd op de Nasdaq Investors Conference. Wanneer de chipgeneratie in productie gaat, blijft echter onduidelijk. De introductie van 10-nanometerchips is vertraagd tot volgend jaar, dus als Intel zijn oorspronkelijke roadmap aanhoudt, zouden 10 en 7 nanometer elkaar relatief snel opvolgen.

De problemen met 10-nanometerproductie komen voort uit een agressieve schalingsdoelstelling (met een factor 2,7 ten opzichte van 14-nanometerchips) in combinatie met multipatterning-lithografie. Omdat de chipstructuren ‘wiebelig’ worden afgebeeld, ontstaan er relatief veel fouten. Dat resulteert in slechte opbrengsten, die maar moeizaam verbeteren. Met euv had Intel scherpere afbeeldingen kunnen maken, maar ASML’s technologie was nog te onvolwassen op het moment dat de processormaker een beslissing moest nemen.

Intel gaat euv wel toepassen in de productie van 7-nanometerchips, bevestigde Renduchintala. Ook speelt het bedrijf dit keer op safe en gaat het voor een ‘reguliere’ krimpfactor van ongeveer een factor 2 ten opzichte van de 10-nanometergeneratie, minder dan de eerder gecommuniceerde factor 2,4. ‘We zijn buitengewoon tevreden over de voortgang in 7 nanometer en mikken op introductie volgens het oorspronkelijke schema dat we intern aanhouden’, zei Renduchintala, zonder details te geven.