Immersielithografie met hoge-indexvloeistoffen komt te laat, concludeert Nikon op basis van signalen uit het veld. De machinebouwer parkeert daarom het bijbehorende onderzoeksprogramma in de categorie ’basic research‘, waar ook maskerloze litho en nano-imprint onder vallen. Daarmee lijken de Japanners zich min of meer te committeren aan EUV.
Velen denken dat immersielitho met water vast zou kunnen lopen bij het 32-nanometerknooppunt. Het is daarom verstandig andere vloeistoffen en lensmaterialen te bekijken, zo dacht de IC-industrie en legde die redenering vast in de International Technology Roadmap for Semiconductors. Al langer betwijfelen sommige chipmakers echter of hoge-indexonderzoek nog wel de moeite waard is, al was het maar omdat de technologie misschien slechts één chipgeneratie houdbaar zou zijn.
Schott Lithotec claimde eerder dit jaar stevige vooruitgang te hebben geboekt om hoge-indexlithografie mogelijk te maken. De Duitsers maakten een lens die geschikt is om in combinatie met hoge-indexvloeistoffen te gebruiken. De vervanger voor water is evenwel nog niet ontwikkeld.
This article is exclusively available to premium members of Bits&Chips. Already a premium member? Please log in. Not yet a premium member? Become one for just €20 for the first year and enjoy all the benefits.
